光刻胶概念盘中拉升

2022-08-05 11:33

近日,国外计划禁止14nm制程EDA软件及生产设备对华出口,中美科技脱钩风险进一步增强,未来我国全面推动自主可控半导体产线落地的紧迫性再度提高。光刻是整个集成电路制造过程中耗时最长、难度最大的工艺,耗时占IC制造50%左右,成本约占IC生产成本的三分之一;光刻胶是光刻过程最重要的耗材,目前我国国产化率近10%,未来空间可期。建议重点关注光刻胶产业链相关公司。

APP内打开